I. Physikalisches Institut der JLU Giessen
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Die Aufdampfanlage

Prof. Dr. Bruno K. Meyer       Dr. Detlev M. Hofmann

Aufdampfen ist der einfachste Methode zur Erzeugung einer dünnen Schicht. Das I. Physikalische Institut verfügt über eine Tectra Aufdampfanlage. Die Anlage ist mit 2 Ports für Aufdampfschiffchen ausgestattet.

Die Temperöfen

Das Temperlabor des I. Physikalischen Instituts ist mit 2 Temperöfen ausgestattet, welche beide bei Gasdrücken bis 10 bar Temperaturen bis 1000 °C (bei niedrigeren Drücken) erreichen können. Tempern ist ein oft angewantes Verfahren zur Verbesserung der Kristallqualität (Ausheilen) oder zu Aktivierung von in den Kristall eingebauten Dotierstoffen. Beide Öfen unterscheiden sich insbesondere durch die Art der Heizung, welche durch eine Halogenlampe bzw. induktiv erfolgt, was im Fall der Lampe zu sehr kurzen und im Fall der induktiven Heizung zu langen Aufheiz- und Abkühldauern führt. Der Ofen mit Halogenlampe ist daher geeignet für RTA-Temperprozesse (Rapid Thermal Annealing, schnell aufheizen, schnell abkühlen).